随着深紫外光刻技术的发展，掩膜检测的精度要求越来越高。齐之明开发的DUV紫外显微物镜适用于深紫外波段，具备高透过率和低像差特性，确保在极短波长下的精细成像，以满足掩膜上微小图形的检测需求。
为解决掩膜修复中高能量激光的精确传输和聚焦问题，公司优化设计了一款高能激光头物镜。该物镜具备高能量传输效率和优良的抗热性，能耐受高功率激光并精确聚焦激光能量，可用于快速修复掩膜上的微小缺陷，保障半导体制造的良率和效率。
